小型加熱炉

高温観察 装置の概要 小型 加熱炉 高温観察装置 （顕微鏡用・大型） 各種試験装置の事例（加熱炉+観察装置 他） 会社概要 小型加熱炉の お問い合わせ 高温試験機の事例 高温観察の事例 その他装置事例

小型加熱炉の概要 実装部品・Siウェハーの電子材料から鉛フリー・軽金属・鉄系の金属材料/ガラス・セラミックスの無機材料及び高分子材料等の加熱・その場観察（計測）に最適。さらに応力負荷時の加熱・その場観察（計測）等へと、幅広い利用が可能です。 リヤルタイム温度制御 熱容量の少ない加熱系は定格出力まで秒速高応答、しかも系内には熱線を遮断する物がなく、試験試料の直接温度制御を可能にします。 クリーン急速加熱冷却 熱容量の少ないランプヒータと冷却反射集光炉体、超高温までの急速加熱冷却能力と温度制御ができます。あらゆる温度シミュレーション試験を可能にします。 手軽な高温度顕微鏡観察 観察用光学石英窓は超長作動対物レンズ、マクロズーム観察を可能にします。観察窓の影響の少ない全周囲からの加熱です。 システム展開 ■加熱能力と温度制御（VIF-QP2-4） 高い加熱能力と温度制御性はアイソサーマル試験や測定を始め、小物ライン加熱までご利用できます。 ■試料ホルダ（VIF-6P2-6に取り付け） 石英製の各種ホルダは開閉反射炉蓋に簡単固定。ウエハ基盤などの装着が可能です。 ■高温観察・金の融解寸前ビデオ画像 マクロズーム観察ユニットによる画像、市販ビデオカメラ搭載で簡便な高温観察システム展開が可能です。 ■超高温資料ホルダ/冷却ノズル るつぼ、ボートを装着できるホルダは白金製。急冷ガスノズルによる冷却制御も可能です。 小型加熱炉　仕様 型式 VIF-TP1-2 VIF-QP1-2 VIF-QP2-4 VIF-QP2-8 VIF-6P2-6 VIF-6P2-12 最高使用温度 1450℃ 1700℃ 1200℃ 1500℃ 炉体構造 2楕円共有集光 4楕円共有集光 6放物面反射放射 使用雰囲気 1000度までは真空、1000度以上はガス雰囲気中、フロー中 加熱炉蓋開口部 φ49 56W47H 100W45H 110W50H 加熱長 110mm 210mm 均熱ゾーン φ10〜15,50mm φ10〜15,100mm φ50,70L（3"薄板） 使用ランプ 1Kw×2 0.5Kw×4 1Kw×4 2Kw×4 1Kw×6 2Kw×6 定格電力 100V2Kw 200V4Kw 200V8Kw 200V6Kw 200V12Kw 重力Kg 2.6 3.6 3.6 4.5 6.5 形状 115W100H260L 115W140H260L 115W140H360L 160W180H360L 冷却水(L/min) 1 1 3 4 4 6 観察ポート WD22石英窓 WD75石英窓 なし 真空排気口 NW16（ISO） 1/4スエジロック （オプションでNW16（ISO９） NW16（ISO） NW16（ISO） 熱電対機密口 2対素線機密取り出し 加熱炉蓋に取り付け可能・2ヶ所 炉蓋に試料ホルダ取り付け、熱電対2対 ガス導入口 φ9タケノコ・観察ポート部 炉蓋に1/4スエジロック 応用 溶解、反応、結晶化高温顕微鏡観察、電子部品高温試験観察 汎用熱処理、ランプ変更で遠赤外加熱も可能、石英管による超高真空加熱 超高温熱処理、熱衝撃試験、物性測定、熱分析、高温観察（接触角） 高温引張試験、高温シュミレータ、連続熱処理炉 半導体基板加熱シミレーション、高温引張試験、高温シュミレータ、連続熱処理炉 半導体ウエハ半時間熱処理（RTA）、高温引張試験、高温シュミレータ、連続熱処理炉 オプション 型式 VIF-TP1-2 VIF-QP1-2 VIF-QP2-4 VIF-QP2-8 VIF-6P2-6 VIF-6P2-12 炉蓋試料ホルダ 白金製箱型11W8H32Lサポート管付き 白金製箱型16W8H80L 3インチウエハ用・石英製 試料容器 るつぼφ10外径・15H/ポート 石英保護管 30φ用マニュホールド付き 60φ用マニュホールド付き サンプル管 加熱炉中心15φ半割50Lアルミナ管 15φ反割100Lアルミナ管 ご指定サンプルホルダ・石英製 観察用レンズ 顕微鏡対物レンズPD95 0.5〜2.0倍絞り機構、WD90mm・スライドXYZ移動 小型加熱炉などのお問い合わせ あらゆるモノづくりの現場では、日々新たな技術や生産システムの構築が求められています。 米倉製作所では、高度化、多様化するユーザーのみなさまのニーズに、きめ細やかにお応えするとともに、新たな技術と製品の開発に努めます。 お気軽にお問い合わせください。

■このホームページの企画・製作ならびに運営はサイバーナビ株式会社のＷＥＢプロモーションサービスを利用して行っております。