大型加熱観察装置　MS-HP500（基板・実装部品用）

チップ部品等の微小実装部品から基板（□100mm）・コネクター等のその場観察を実現

  • サンプルだけの近赤外線集光で基板などの試料を秒速高温均一加熱
  • クリーン加熱とクリヤーな加熱観察・簡単構造でメンテナンスフリー
基板・実装部品用大型加熱観察装置

【計測結果データ】昇温速度と制御性能

【計測結果データ】昇温速度と制御性能について

クリックすると拡大します

 

→基板上のはんだを観察した例はこちら


高品質オプション

  • スーパーインポーズ用ソフト及びパソコン（17インチ液晶モニター付）
    温度・時間のデータをモニター画面に貼り付け、基板等を高品質でリアルタイムに映像観察できます。
  • ズームレンズ付きCCD観察機構
    上部・側面からの2方向観察機構から構成されており、上部のみ、側面のみ、上部・側面と必要に応じ選択できます。ズーム観察倍率も40倍～140倍を実現
  • ガス冷却機構
    冷却速度及びスループットの向上を実現
  • 真空排気系
    クリーンなガス雰囲気を実現、真空置換用としてご使用してください。
  • 冷却水循環装置
    炉体冷却用としてご使用ください。
▲このページの上へ

基板・実装部品用大型高温観察装置　MS-HP500　標準構成

構成

  • 加熱炉本体
  • 試料ホルダー
    （□100mm石英ホルダー・R熱電対1式付き・均熱板）
  • 温度制御器

高品質オプション

  • ズームレンズ付きCCD観察機構（側面観察約40～約140倍）
  • ズームレンズ付きCCD観察機構（上部観察約40～約140倍）
  • スーパーインポーズ用ソフト及びパソコン（17インチ液晶モニター付）
  • ガス冷却機構
  • 真空排気系
  • 冷却水循環装置
  • 高倍率／低倍率ズームレンズ

主要仕様

装置名称 大型高温観察装置　MS-HP500
温度範囲 RT～500℃
雰囲気 真空排気後高純度ガス中・ガスフロー中
到達真空度 10-2 Torr
真空引口 NW16
試料ステージ □100mm
加熱方式（ヒーター容量） 近赤外線ランフ゜発光・反射集光加熱（1.5kwランプ　4本）
冷却方式 ガス吹きつけ
加熱・冷却特性 +500℃まで20秒以内
安全対策 炉体水冷・ランプ空冷・保安措置付き
温度制御 デジタルプログラムPID-SCR
プログラム設定 16セグメント16パターン
温度制御精度 ±0.1%+1dig　0.1℃分解能
温度センサー R型熱電対
装置外形寸法 炉本体　160W×180H×360L
温度制御器　132.5W×265H×370D
ユーティリティ 電源　AC200V30A
ガス導入口φ6-4mmビニールパイプ用金具
ガス排気口φスエジロック1/4接続ポート
冷却水出入り口φ8-6mm樹脂チューブ用金具
▲このページの上へ

基板加熱観察装置のお問い合わせ

米倉製作所では、高度化、多様化するユーザーのみなさまのニーズに、きめ細やかにお応えするとともに、新たな技術と製品の開発に努めます。

基板の観察が可能な加熱観察装置のほか各種装置について、ご質問、ご要望等ございましたら、お気軽にお問い合わせください。

※サンプルの加熱観察テスト、横浜事業所に来社いただいてのデモも行っておりますので、
　ご希望の場合はご連絡ください。

 
基板加熱観察装置のお問い合わせはこちら