赤外線加熱装置　小型加熱炉【株式会社米倉製作所】

近赤外線加熱装置の概要

実装部品・Siウェハーの電子材料から、鉛フリー・軽金属・鉄系の金属材料、ガラス・セラミックスの無機材料、及び、高分子材料等の加熱・その場観察（計測）に最適。
さらに、応力負荷時の加熱・その場観察（計測）等へと、幅広い利用が可能です。

リアルタイム温度制御

熱容量の少ない加熱系は定格出力まで秒速高応答、しかも系内には熱線を遮断する物がなく、試験試料の直接温度制御を可能にします。

クリーン急速加熱冷却

熱容量の少ないランプヒータと冷却反射集光炉体、超高温までの急速加熱冷却能力と温度制御ができます。あらゆる温度シミュレーション試験を可能にします。

手軽な高温度顕微鏡観察

観察用光学石英窓は超長作動対物レンズ、マクロズーム観察を可能にします。観察窓の影響の少ない全周囲からの加熱です。

近赤外線加熱装置　システム展開

加熱能力と温度制御（IR-QP2-4）

高い加熱能力と温度制御性はアイソサーマル試験や測定を始め、小物ライン加熱までご利用できます。

試料ホルダ（IR-HP2-6に取り付け）

高い加熱能力と温度制御性はアイソサーマル試験や測定を始め、小物ライン加熱までご利用できます。

高温観察・金の融解寸前ビデオ画像

マクロズーム観察ユニットによる画像、市販ビデオカメラ搭載で簡便な高温観察システム展開が可能です。

超高温資料ホルダ/冷却ノズル

るつぼ、ボートを装着できるホルダは白金製。急冷ガスノズルによる冷却制御も可能です。

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近赤外線イメージ炉　仕様

型式	IR-TP1-2	IR-QP1-2	IR-QP1-4	IR-QP2-4	IR-HP2-6	IR-HP2-9
最高使用温度	1450℃		1700℃		1200℃	1500℃
炉体構造	2楕円共有集光	4楕円共有集光			6放物面反射放射
使用雰囲気	1000度までは真空、1000度以上はガス雰囲気中、フロー中
加熱炉蓋開口部	φ49	56W47H		100W45H	110W50H
加熱長	110mm			210mm
均熱ゾーン	φ10～15,50mm			φ10～15,100mm	φ50,70L（3"薄板）
使用ランプ	1Kw×2	0.5Kw×4	1Kw×4	2Kw×4	1Kw×6	2Kw×6
定格電力	100V2Kw		200V4Kw	200V8Kw	200V6Kw	200V12Kw
重力Kg	2.6	3.6	3.6	4.5	6.5
形状	115W100H260L	115W140H260L		115W140H360L	160W180H360L
冷却水(L/min)	1	1	3	4	4	6
観察ポート	WD22石英窓	WD75石英窓			なし
真空排気口	NW16（ISO）	1/4スエジロック（オプションでNW16（ISO９）		NW16（ISO）	NW16（ISO）
熱電対機密口	2対素線機密取り出し	加熱炉蓋に取り付け可能・2ヶ所			炉蓋に試料ホルダ取り付け、熱電対2対
ガス導入口	φ9タケノコ・観察ポート部				炉蓋に1/4スエジロック
応用	溶解、反応、結晶化高温顕微鏡観察、電子部品高温試験観察	汎用熱処理、ランプ変更で遠赤外加熱も可能、石英管による超高真空加熱	超高温熱処理、熱衝撃試験、物性測定、熱分析、高温観察（接触角）	高温引張試験、高温シュミレータ、連続熱処理炉	半導体基板加熱シミレーション、高温引張試験、高温シュミレータ、連続熱処理炉	半導体ウエハ半時間熱処理（RTA）、高温引張試験、高温シュミレータ、連続熱処理炉

オプション

型式	IR-TP1-2	IR-QP1-2	IR-QP2-4	IR-HP2-6
炉蓋試料ホルダ		白金製箱型11W8H32Lサポート管付き	白金製箱型16W8H80L	3インチウエハ用・石英製
試料容器		るつぼφ10外径・15H/ポート
石英保護管		30φ用マニュホールド付き		60φ用マニュホールド付き
サンプル管	加熱炉中心15φ半割50Lアルミナ管		15φ反割100Lアルミナ管	ご指定サンプルホルダ・石英製
観察用レンズ	顕微鏡対物レンズPD95	0.5～2.0倍絞り機構、WD90mm・スライドXYZ移動

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近赤外線加熱装置のお問い合わせ

米倉製作所では、高度化、多様化するユーザーのみなさまのニーズに、きめ細やかにお応えするとともに、新たな技術と製品の開発に努めます。

近赤外線加熱装置をはじめとする各種試験機について、ご質問、ご要望等ございましたら、お気軽にお問い合わせください。

※サンプルの加熱観察テスト、横浜事業所に来社いただいてのデモも行っておりますので、
　ご希望の場合はご連絡ください。

近赤外線加熱装置（小型加熱炉）