LSIマスクレイアウトシステム
LSIマスクレイアウトシステムdw-2000TM
LSI設計をパソコンで実現します
 
  • 設計から検証に至るまでのすべてのモジュールにおいて、全階層で一億分の一度の精度でオールアングルをサポート
  • すべてのモジュールに共通、インターフェイス完全統合型マクロ機能であらゆる作業を自動化
  • あらゆるナノデバイス設計に最強のポリゴンエディタ
概要

dw-2000 は、LSI 設計に欠かすことの出来ない「物理的なセル配置」と、LSI 製造工程における「マスク」データを、LSI 設計者やオペレータが短期間のトレーニングで使うことのできる「インターフェイス」と共に提供する「E.D.A(Electronic Design Automation)」ソフトウェアです。

特徴
dw-2000 は、あくまでも設計者の意思をより明確に「形」にすることにこだわった「Layout Editor」を中心とし配置されたセルデータの信頼性をより高めるための「Design Rule Checker」、他社製ツールで作成された個々のデータを活用するための「各種データ変換ツール」、設計者自身が個々の目的にあった「自由で柔軟なプログラム」を開発できる「GPE (Graphics Programming Environment)」など、シームレスな統合環境を実現しています。また、「レイアウトとスケマチック」を有機的に結合する「HLVS コンパレータ・モジュール」を併用することで、「プレース&ルート(配置配線)」を階層的により効率よく行うことが可能です。
用途
マイクロマシン、光デバイス、液晶・フラットパネル、半導体(主にアナログデバイス)、その他ナノデバイス等の設計開発
機能
・仕様・・・レイアウト編集機能を核とする基本機能
・ライブラリー・・・Photonic Element Library
・ライセンス・・・レイアウト編集機能を核とする基本機能
・価格表・・・dw2000価格表
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