特 長
超微小焦点のX線源・高精度ステージ・高密度X線検出器の採用で、ナノレベルの検査を実現し、高密度材料の構造解析を可能にしました。
・最高空間分解能:150nm/voxel
・管電圧:20〜80kV
特 長
高輝度・微小焦点のX線源搭載により、従来コントラストのつかなかった軽素材や、高分解能を必要する構造物の撮像が可能になりました。
・最小焦点サイズ:0.4µm
・管電圧:40〜120kV
・幾何倍率:1,500倍(モニター上 6,000倍)
特 長
新開発のX線源にショットキーエミッターとFE型電子銃を採用し、焦点サイズ0.1µmの極小化を実現しました。次元の異なる高い分解能で検索範囲の限界を広げます。
・焦点サイズ:0.1µm
・管電圧:20〜80kV
・幾何倍率:2,500倍(モニター上 10,000倍)
特 長
400×400mmの大型実装基板をカットせずに、実装部品を最大60度の傾斜をつけて観察することができます。
・最小焦点サイズ:0.4µm
・管電圧:40〜120kV
・幾何倍率:1,000倍
特 長
大型の基板をカットせずに、透過像では確認できなかった断面及び3D画像で、実装部分の不良解析を行うことができます。
・焦点サイズ:0.4µm
・管電圧:40〜120kV