X線反射率測定(XRR)などの表面分析受託サービス
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EAGのX線分析手法：EDS、LEXES、XPS、XRD、XRF、TXRF、XRR EAGのX線分析手法：エネルギー分散型X線分光分析、低エネルギーX線分析、X線光電子分光分析、X線回折、蛍光X線分析、全反射蛍光X線分析、X線反射率測定
EAGのX線分析手法
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X線反射率測定(XRR)とは

基板上の薄膜・多層膜に対して非常に浅い角度で入射させるとX線は全反射されます。 入射X線の角度が全反射臨界角以上になると、薄膜内部にX線が侵入し試料表面や界面で透過波と反射波に分かれ、 反射波は干渉します。入射角度を変えながら測定を行い、光路差の変化に伴う反射波の干渉信号の解析から、 薄膜・多層膜の膜厚、界面ラフネスを求めることができます。 また、全反射臨界角から膜の密度を求めることができます。 X線反射率測定法は非破壊で薄膜や多層薄膜の各層の膜厚、密度、界面ラフネスを求めることができる手法です。

HfO2(6nm)膜のXRR評価結果

図はHfO2(6nm)膜のXRR評価結果を示しています。 XRRを用いる事で、ドーパントNの影響を含めたHfO2膜の密度変化と 正確な膜厚を求めることが可能です。

X線反射率測定(XRR)の特徴

長所

○薄膜試料の、膜厚、膜密度、ラフネスの調査が可能。
○300mm waferまでの面内分布を調べることが可能。
○高精度な膜厚評価が可能。
○薄膜（3nm)の測定が可能。
○標準試料は不要。

制限

○最小分析エリア：約1cm
○500nm膜厚までの測定が可能。
○膜中組成情報の解析は不可。

X線反射率測定(XRR)の評価例

  • バリアメタル
  • Cuシード及びメッキ層
  • 各種金属、シリサイド薄膜
  • ゲート絶縁膜（SiON,High-k膜）
  • キャップSi/SiGe膜
  • 各種絶縁膜
    など

X線反射率測定(XRR)などのお問い合わせ
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X線反射率測定(XRR)
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