蛍光X線分析(XRF)などの表面分析受託サービス

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EAGのX線分析手法:EDS、LEXES、XPS、XRD、XRF、TXRF、XRR EAGのX線分析手法:エネルギー分散型X線分光分析、低エネルギーX線分析、X線光電子分光分析、X線回折、蛍光X線分析、全反射蛍光X線分析、X線反射率測定
EAGのX線分析手法
EDS / LEXES / XPS /  XRD / 蛍光X線分析(XRF) / TXRF / XRR

 蛍光X線分析(XRF)とは

XRFは固体試料の主成分、不純物の調査に有用である。また、300mm waferの金属膜厚の面内分布を調べることができる。

ステンレス316のXRFスペクトル

図は、ステンレス316のXRFスペクトルを示している。この結果より、ステンレス316の主要元素はCr,Fe,Ni、Moである事が確認できた。
XRFは固体試料の定性分析に非常に有用である。特に、XRDを併用する事で、試料中の結晶構造、アモルファス状態を調べる事ができる。


蛍光X線分析(XRF)の特徴

長所

○固体試料、薄膜試料の定性分析、及び主要元素の定量分析が可能。
○300mm waferまでの金属膜厚の面内分布を調べることが可能。
○ボンディングパッド、リードフレイムの膜厚調査が可能。
○10-100ppmレベルの不純物調査が可能。
○粉末、及び液体試料の分析が可能。

制限

○ 最小分析エリア:70um
○ Mgより軽い元素の検出は不可
○ 深さ方向分布の測定は不可


蛍光X線分析(XRF)などのお問い合わせ

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