XPS/ESCA(X線光電子分光分析)などの表面分析受託サービス

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SIMS / RBS/PIXE / HFS / NRA / TOF-SIMS / AES, Wafer AES / XPS/ESCA(X線光電子分光分析)
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RBS/PIXE(X線光電子分光分析)装置とは

物質表面に軟X線を照射した時、飛び出した光電子のエネルギーを測定する装置。固体の表面から数nmの深さ領域に関する元素や化学結合状態の分析に利用される。エッチング(アルゴンイオンによる)を行うことにより、深さ方向の変化分析も可能。ESCAまたはXPSとも呼ばれる。


XPS/ESCA(X線光電子分光分析)の特徴

特徴:化学結合状態情報が得られる。非破壊分析。

定量分析 Yes 破壊測定 No(非破壊)
検出感度 0.05-0.5at% 空間分解能/ビーム径 10μm
化学結合状態 Yes 深さ分解能 1-10nm

XPS/ESCA(X線光電子分光分析)の主な利用法

  • 表面汚染や変色部の同定
  • パウダー試料や破片状試料の組成分析
  • 試料表面洗浄プロセスの評価
  • 酸化状態、酸化膜厚の評価
  • ポリマーやLow-k 膜のCの化学状態分析
  • ハードディスクの潤滑剤の膜厚評価
  • 薄膜の深さ方向組成分析

XPS/ESCA(X線光電子分光分析)などのお問い合わせ

ナノサイエンス株式会社は、エバンス・アナリティカル・グループ(EAG)の一員として各種表面分析受託サービス(XPS/ESCA分析他)を提供します。社員一人ひとりが幅広い知識を持ち、ユーザーに対して提案・アドバイス及び的確なサポートでお応えします。世界一流技術を通じて、私たちはあらゆるニーズに即応します。
XPS/ESCA(X線光電子分光分析)
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