RBS/PIXE(ラザフォード後方散乱分析)などの表面分析受託サービス

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SIMS、GDMS、LEXES、RBS/PIXEほか表面分析受託サービス 二次イオン質量分析 グロー放電質量分析 低エネルギーX線分析 表面分析サービス(ラザフォード後方散乱分析) 標準試料販売
SIMS / RBS/PIXE(ラザフォード後方散乱分析) / HFS / NRA / TOF-SIMS / AES, Wafer AES / XPS/ESCA
FE-SEM(走査型電子顕微鏡) / AFM/SCM / SPM / μFTIR / Ramam / SRP

RBS/PIXE(ラザフォード後方散乱分析)とは

RBS分析:薄膜の組成・密度を分析する方法の一種。ヘリウムなどの軽元素イオンを加速器を用いて高速で試料に衝突させて、試料中の原子核に衝突してはね返ってきたイオンのエネルギーの大きさを測定することで、相手元素やその分布などを分析する方法。

PIXE分析:試料中の元素構成を測定するための分析法。分析原理としては、陽子やα粒子などの重荷電粒子を加速器により加速して試料に照射し、その結果発生する元素固有の特性X線を測定して元素分析する。この分析法は非常に高感度であるため、気体元素以外の約80種類の元素を同時に定量分析(多元素同時定量分析)することが可能。工業分析の他にも、食品中や河川の成分分析等にも利用されている分析法。

弊社で行っているラザフォード後方散乱分析では、PIXE分析を併用し、高感度の分析を可能としております。


RBS/PIXE(ラザフォード後方散乱分析)の特徴

特徴:定量分析に標準試料なしで絶対定量が可能。

定量分析 Yes 破壊測定 No(非破壊)
検出感度 0.001- 10at% 空間分解能/ビーム径 _1mm
化学結合状態 No 深さ分解能 5-20nm

RBS/PIXE(ラザフォード後方散乱分析)などのお問い合わせ

ナノサイエンス株式会社は、エバンス・アナリティカル・グループ(EAG)の一員として各種表面分析受託サービス(RBS/PIXE他)を提供します。社員一人ひとりが幅広い知識を持ち、ユーザーに対して提案・アドバイス及び的確なサポートでお応えします。世界一流技術を通じて、私たちはあらゆるニーズに即応します。
RBS/PIXE(ラザフォード後方散乱分析)
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