GDMS(グロー放電質量分析)などの表面分析受託サービス

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Li〜Uまでの元素についてppb〜%のバルク分析が可能 GDMS/グロー放電質量分析の受託 Li〜Uまでの元素についてppb〜%のバルク分析が可能 GDMS/グロー放電質量分析の受託
GDMS(グロー放電質量分析) / IGA / ICP-OES

GDMS(グロー放電質量分析)の原理・特徴

  • 固体試料を陰極としグロー放電を用いて試料表面をスパッタし、放出された中性粒子をプラズマ内のArや電子との衝突によってイオン化させる。
  • Li〜Uまでの元素についてppb〜%のバルク分析が可能。
  • マトリックス効果が小さく、標準試料がない場合でも定量に近い半定量分析が可能。
  • 粉体、ブロック体、薄膜、ワイヤー状等、様々な形態の試料でも補助電極を用いることで測定可能。
  • 金属材料だけでなく、補助材料を用いる事で半導体材料・絶縁物材料の測定も可能。

Pin Cell分析 -ピン状試料の場合-

GDMS(グロー放電質量分析):Pin Cell分析

【分析に適した試料形状】 −Pin Cell-

GDMS(グロー放電質量分析):スパッタ領域

定量の限られている小さいサンプルに対して効果的
ワイヤー状及び粉体試料でも、補助材料を用いて分析可能
*フラットセル測定よりもスパッタリングレートが僅かに早く気体成分のバックグラウンドを低く維持可能

Flat Cell分析 -板状試料の場合-

GDMS(グロー放電質量分析):Flat Cell分析

【分析に適した試料形状】 −Flat Cell-

GDMS(グロー放電質量分析):スパッタ領域 薄いフイルム状や平らな表面のサンプルに効果的
* 平面があり、ラスネスは小さい方が好ましい
基板上の薄膜も分析可能(数〜数十μm)
表面から深さ方向へのスパッタリング毎のデータ取得値報告可能
* 測定領域が広いためピンセル方式より再現性があリ、より精度の高いデータを提示可能

粉末及び小さい試料の場合

Pin Cell方式またはFlat Cell方式どちらでも分析可能
* 必要試料量:数〜10g

TaまたはInの補助材料を用いる事で試料を固定し測定可能
* 99.9999%の純度のモノを使用

 Inバインダーを用いたSi粉末試料の測定例

GDMS(グロー放電質量分析):Inバインダーを用いたSi粉末試料の測定例

Inの補助を用いたNb205粉末試料の測定例

GDMS(グロー放電質量分析):Inの補助を用いたNb205粉末試料の測定例

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GDMS(グロー放電質量分析)
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