EAGのX線分析手法などの表面分析受託サービス

EAGのX線分析手法

• エネルギー分散型X線分光分析(EDS)
• 低エネルギーX線分析(LEXES)
• X線光電子分光分析(XPS)
• X線回折(XRD)
• 蛍光X線分析(XRF)
• 全反射蛍光X線分析(TXRF)
• X線反射率測定(XRR)
• お問い合わせ

エネルギー分散型X線分光分析(EDS)

	広い元素範囲をカバーし、元素の種類の同定やマッピングを行うことができます。 エネルギー分散型X線分光分析(EDS)について 詳しくはこちら
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低エネルギーX線分析(LEXES)

	高精度でウエハ全体のマッピングを行うことができます。 低エネルギーX線分析(LEXES)について 詳しくはこちら
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X線光電子分光分析(XPS)

	単に元素分析の情報だけではなく、元素の化学結合状態が得ることができます。 X線光電子分光分析(XPS)について 詳しくはこちら
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X線回折（XRD）

	組成情報だけが得られるような手法では得られなかった、材料に存在する結晶相や、結晶方位、結晶サイズなどの情報を全て得ることができます。 X線回折（XRD）について 詳しくはこちら
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XRF(蛍光X線分析)

　

	固体試料の主成分、不純物の調査に有用です。 また300mm waferの金属膜厚の面内分布を調べることができます。 XRF(蛍光X線分析)について 詳しくはこちら
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全反射蛍光X線分析(TXRF)

	特にポリッシュされたウエハー表面の金属汚染を評価するのに用いられる、 XRFから分化した分析手法です。測定の特徴はXRFと同様ですが、 X線ビームの入射角が試料表面からわずか〜0.2°という点が異なります。 全反射条件の結果、分析深さを10nmまたはそれ以下に限定して 分析することができます。これにより、数μmの深さまで到達するXRF分析と 比較して、表面汚染に対してのXRF測定の感度を劇的に改善することができます。 全反射蛍光X線分析(TXRF) について 詳しくはこちら
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X線反射率測定（XRR法）

	試料表面と界面のX線反射の角度依存性を調べる事により、 正確な薄膜の膜厚評価が可能です。 また、反射波の減衰率を調べる事により、試料表面の凹凸を求める事が可能です。 さらに、全反射臨界角から膜密度を求めることができます。 X線反射率測定（XRR法）について 詳しくはこちら
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